如果一個國家要打造良好的營商環境，有不同層面的議題需要兼顧，而對智慧財產權的保護絕對是重中之重。台灣對於智慧財產權的保護雖不算是頂級極致，但也是在不斷進步中。為營造更優質的專利救濟制度，並與國際接軌，智慧局參考了日本、美國及德國等等各國的專利救濟制度，審慎研議出專利案件救濟制度之修正方向，並於去年12月底祭出了「專利法部分條文修正草案」，以期建立更符產業需求之專利救濟制度。雖然立意善良，表面上可以對專利權人提供更妥善的保障，但筆者認為這只是治標不治本的做法。專利對專利權人真正的保障來自專利品質，如果一個專利的品質不優，一下子便被對手無效掉，完全沒有機會上戰場，那專利救濟制度再完善又有什麼用？

專利品質不優單純是專利權人或發明人的問題嗎？現今大部分中小型企業應該還處於知道智權與專利保護重要，但對智權的內在作業規則並不熟悉的階段。發明人會直接告訴你，我就是想保護一個什麼什麼東西，但是因為不清楚智權或是專利保護的規則，所以最後就局限於：「智權人員就是要幫我拿到專利權」。然而，當授權率成了唯一的標杆時，垃圾專利即應運而生。真正到了有訴訟時，靠那些證書，能解決問題嗎？然而，話又說回來，這些千瘡百孔品質不優的專利，當初是如何獲得授權、取得專利證書的呢？

是審查品質不佳還是智財法院審查標準過嚴？

智財法院庭長李維心、蔡惠如及汪漢卿曾共同發表了一份《智慧財產法院專利訴訟有效性及損害賠償之研究》報告，報告中有一部分探討了專利無效比率的問題。汪漢卿指出，智慧財產民事訴訟程序中，倘當事人主張或抗辯智慧財產權有應撤銷或廢止之事由時，法院就該事由之有無應自行判斷，倘法院認為該智慧財產權確實有應撤銷或廢止之原因時，智慧財產權人於該民事訴訟程序中即不得對他造主張權利，此為審理法第16 條所明定。因此智慧財產權有效與否，攸關權利人得否依該權利向侵害權利之人主張損害賠償或請求排除、防止侵害，甚或影響權利人是否仍得依據授權契約繼續向被授權人收取權利金之結果。也就是說，一旦專利被宣告無效，研發創新的成果便無法獲得保護，且發明已揭露，等如是將研發成果免費公開給大眾使用。

報告整理了2008年7月至2019年6月智慧財產法院民事第一審專利訴訟事件無效抗辯成立之比率及專利訴訟終結情形，如圖1及圖2所示，顯示專利權人勝訴率只有20.9%。

汪漢卿在報告中指出，「一般而言，倘被控侵權物未落入專利權範圍時，通常法院傾向不就專利有效性為判斷，反之，倘被控侵權物落入專利權範圍時，則法院必須先就專利有效性為比對認定。就理論上而言，原告勝訴率之高低固然可以反映專利被認定有效之比率高低（在專利無效、構成侵權及專利有效而且侵權時，法院通常會對於專利有效性表示意見）。不過，由於部分判決不論被控侵權物是否落入專利權範圍，就專利有效性部分仍會作出判斷（例如專利有效而未構成侵權，以及專利無效、亦未侵權時，法院對於專利有效性部分仍有可能表示意見，此部分之可能性無法完全排除）。因此理論上而言原告勝訴率之高低與專利有效比率應該形成正比狀態。以民事一審為例，專利經判斷無效之比率約為52.35%，反面而言，專利經判斷有效之比率約有47.65%，惟原告勝訴之比率僅約20.09%。」

筆者另外再資料更新至2020年底 (圖3、圖4、圖5)，如圖3所示，勝訴率更是往下掉至12.9%。

綜合以上統計資料，汪漢卿認為智慧財產訴訟中專利無效比率確有偏高情形，他表示理論上而言，造成此種結果之成因不外有下列兩點可能性：1.智慧財產法院對於專利有效性之審查標準過於嚴苛（即過度輕易撤銷專利）；2.專利品質不佳。

另外，報告有一個很有趣的發現，就是一直以來都有見解認為新型專利係採形式審查，因此其品質相較於採實質審查之發明專利更顯參差不齊，理論上新型專利之無效比率應較發明專利為高。然而，依據智慧財產法院成立以來至2019年5月為止，專利有效性經提出挑戰並經判斷成立之比率，發明專利部分約為55.05%，新型專利部分則約為 53.09%，兩者差異不大。讓人不禁懷疑審查與否對於專利品質好像沒有差別，審查委員把關的功能備受質疑。

雖然報告也比較了德、美、日的情況，表示台灣專利無效的比率不算是特別高，但筆者認為每一國的情況不一樣，不能光就數未去解讀，比較實在的是看台灣專利的品質本身：為什麼品質不好或是輕易被無效的專利可以通過審查，取得證書？是不是在專利審查品質本身就出了問題?如果不把問題解決，台灣專利無用論恐怕會從「質疑」變成「事實」。

如果這是因為智慧財產法院對於專利有效性之審查標準過於嚴苛所導致的結果，那倒是一件好事。雖然專利是屬地主義，但也有不少企業把台灣案作為第一案，再翻譯成不同語文申請美國、日本甚至歐洲專利，如果那是一個在台灣都上不了戰場的專利，又如何在國際舞台上打世界盃？一早被刷下來是反而好，不用浪費更多的金錢及力氣。

智慧局舉發成立比例節節攀升，是專利審查品質不優的鐵證

當我們質疑是否智財法院對專利有效性之審查標準過嚴，導致專利無效率偏高之時，不妨也回頭看看智慧局舉發成立的數據。圖6是智慧局近年舉發案申請件數及審結期間之數據統計。從圖6中可見，於2013年至2020年期間，舉發成立，亦即無效比率之平均值分別為設計 51%、新型 46%、以及發明 30%；其中新型與發明之無效比率在近年更是節節攀升，總體舉發成立率到2020年已逼近50% (48.9%)，完全不亞於智財法院。專利舉發是「公眾審查」的概念，就等如說智慧局審得不好，只好由公眾幫你把關，再審一次，提新資料去證明根本不應該給該專利通過，這不就是審查品質不優的最好證明嗎？

筆者認識一個中國專利代理人多年，他任職外國企業的智權部門，專責代表國外企業去無效中國國內企業的專利。中國早年為了衝專利數量，各種專利資助如火如荼，為了拚業績、比數字，根本數不清產生了多少垃圾專利。這名中國代理人為外國企業去無效中國企業的專利時，中國企業毫無招架之力，最後被全部都變無效時，感到相當震驚。我們當然不希望同樣的事情發生在台灣企業身上，所以提升審查品質，為優質專利做好把關動作已是刻不容緩的當務之急。也唯有擁有優質專利，才能在台灣這個本土戰場「磨練」訴訟技巧，培養在國外上戰場的能力。

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一年前本刊就曾報導過中國最高人民法院知識產權法庭（簡稱「知產法庭」）在首年的運作成績單（中國最高人民法院知識產權法庭2019成績單出爐！）。當時這個新設的單位才剛上路，不只知產法庭的法官自己還在摸索，包括下級法院以及所有的專利案件當事人，都還在學習該怎麼跟知產法庭互動。

如今，又一年過去了，從最新的年度報告中我們可以發現，知產法庭的公信力與專業度已經慢慢在提升，但社會對於審判的需求實在太高，無形中也加重了法官們的負擔。

首先，就新收案量與審結案量兩個指標來看，2020年都出現了明顯的增長：2020年知產法庭的新收案量為3176件，比起2019年的1945件暴增了60%；審結案量更出現將近一倍的成長，從1433件一口氣提高到2787件（圖1）。

2020年知產法庭的新收案量與審結案量雙雙暴增

新收案件的結構也在2020年出現變化。2019年時，民事與行政類案件的占比約62%，另外有約莫25%（481件）為管轄權案件；不過到了2020年，民事、行政類案件的整體占比就高達82%，管轄類等其他案件只剩20%不到。換句話說，經過一年的試驗後，案件的當事人已經大致了解中國知識產權審判系統的管轄規定，找錯法院的比例也大為降低，知產法院的法官們也更能專注在案件本身的實體爭議上。

在民事類案件中，專利侵權訴訟始終處於核心地位。因此，發明專利與實用新型專利的侵害案件，不論在2019、2020年都位居民事類案件的前兩名。但值得注意的是，若以占比來看，數量最多的「侵害實用新型專利」卻不進反退，從2019年的47%下降到2020年的38%；還有，「專利申請權、專利權歸屬」類案件的數量，也在2020年從9件暴增到163件（圖2）。

專利相關權利歸屬，將成為爭議新熱點

技術研發活動在各國都是由大企業或研發機構主導，專利申請權、專利權的歸屬都必須藉由契約來拘束，若有不慎就容易發生權利歸屬的爭議，更不用說在聯合或受託研發中，潛在的爭議更大。在去年最新修正的專利法中，重點之一就是職務發明條款，顯見權利歸屬問題已經備受重視，科研企業更必須早做準備。

行政類案件，也多與侵權爭議相關。在670個新收案件中，有超過50%為與侵權訴訟相牽連的專利權無效案件，其次是占比約4成的申請駁回複審類案件（圖3）。有趣的是，在246件的複審類案件中，居然有226件屬於發明專利，屬於外觀設計、實用新型的僅20件。換句話說，若專利申請被駁回，只有發明專利的申請人比較願意繼續尋求司法救濟，或許多少能反映出三種專利的含金量。

法庭編制沒有明顯擴大、但審結案量又大幅增加，法官的審案壓力之大可想而知。實際上，正是由於收案量大增，審理週期也被迫因此延長，2020年的案件平均審理期間，民事、行政類案件分別來到121天與130天，比2019年的73天增加許多。不過，在2020年裡，知產法庭發改（發回重審或改判）的案件比例為15%，比起2019年高出近一倍，顯示知產法院對於下級審法院的判決已經不再照單全收，將有助於提升當事人繼續上訴的信心，從而建立自己的權威性。

整體來看，知產法庭第二年的表現確實比第一年更上軌道，就算審理所需時間變得更長，也還在可接受的範圍內。只不過，隨著收案量一年比一年增加，知產法庭的編制也必須配合擴大，才能滿足產業界的需求。

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2020年12月30日，台灣智慧局 (TIPO) 就不服專利專責機關就專利申請及專利權有效性等案件之審議決定案件，參考美日等國專利救濟制度，預告修正「專利法部分條文修正草案」。美國於2011年美國AIA法案即建置專利複審等專利發證後挑戰的行政爭訟程序，該制度不斷演進，並牽動各方專利競爭態勢。本文整理美國專利商標局「專利審判及上訴委員會」近年對行使限制申請人「重複」或「同時」申請立案之裁量權時的考量因子，及其爭議和對產業專利競爭的影響。

美國專利複審制度與併行訴訟

2011年美國AIA法案於美國專利商標局（USPTO）行政體系下，創設兼具準司法審判性質的「專利審判及上訴委員會」（PTAB）和「多方專利複審」（IPR）、「領證後複審」（PGR）與「商業方法專利複審」（CBM）等三種專利發證後挑戰的行政爭訟程序。其旨在民事訴訟外形塑具公眾審查色彩、淘汰品質不佳專利（weak patents）過程費用較為低廉、且時程更為迅速的行政程序作為法院訴訟的替代方案，以減少聯邦法院體系負擔。

有鑑於USPTO的專利複審程序、聯邦法院的專利侵權訴訟和美國國際貿易委員會（ITC）對於違反美國關稅法第337條的專利侵權案件 （簡稱ITC 337案件）三者之間，係相互平行且可同時進行（parallel, co-pending proceeding）之程序，專利有效性或侵權糾紛的當事人可依個案進度與需求選擇適合的場域，甚至是併行專利複審和侵權爭訟程序。

為避免當事人濫用併行USPTO專利複審和聯邦法院專利侵權訴訟的優勢，AIA法案在美國專利法規定有兩種限制，包含：（1）專利複審的申請人（petitioner）或利害關係人已向聯邦法院提出專利無效確認之訴（Declaratory Judgment），即不得於嗣後再向專利商標局提出領證後複審程序；（2）在IPR程序中，申請人、與其利害關係人或與申請人有密切連繫之人於收到專利侵權起訴狀1年後，不得提出申請。由上可知，美國專利法對併行複審和訴訟制度，僅規定主動於法院提出專利無效確認之訴或收到法院專利侵權起訴狀1年後之人，不得再利用專利複審程序；其並未對併行專利複審和ITC 337案件者予以限制，更未有其他針對併行專利複審、侵權訴訟和ITC 337案件的具體明文限制。

誠如上述，由於專利複審得以更迅速、低廉的費用解決專利有效性爭議，且主張專利無效的法定舉證門檻又低於法院的侵權訴訟，因此專利複審便成為被控侵權人在專利競爭決策中化被動為主動的有利戰場。惟專利權制度的變遷就像鐘擺一樣，在保護專利權人私益和兼顧社會公益之間擺盪。此有利於主張專利無效的專利複審戰場，在USPTO藉由指定判決先例據以統一見解及實質拘束PTAB裁量權的方式，對專利複審的「立案申請」增加法律所無之限制，恐將鐘擺扭轉傾向專利權人。究竟USPTO指定的判決先例提高了哪些立案門檻，且待本文說分明。

專利複審先例對立案門檻的影響

首先，我們先要瞭解專利複審程序的架構。該程序的進行均採取兩階段結構，循序分別為「立案申請」（petition）階段與「審判」（trial）階段。換言之，專利複審程序因申請人提出申請而啟動立案階段之審查，唯有經PTAB 認為符合申請門檻者（reasonable likelihood，相當於50%的心證門檻），始會正式立案而進入本案審判的第二階段。而是否立案的職權，由USPTO局長授權PTAB 於個案行之，且當事人不得針對關於立案與否之決定提起上訴以尋求CAFC的司法審查。

除此之外，AIA法案全權賦予USPTO將案件成立後對經濟之影響、專利制度整體完整性、是否能達到有效管理等因素納入考量後，據以訂定裁量是否立案。然而，由於USPTO將該權利轉授予轄下各PTAB的行政專利法官（Administrative Patent Judge，APJ）視個案情況予以裁量，在過去沒有統一規範的情況下，立案門檻的界定充斥著極高的不確定性，而飽受外界對其是否有濫用裁量權的質疑。

為扭轉個案裁量的非議，USPTO於2018年9月成立PTAB判決先例意見小組（Precedential Opinion Panel，POP），其成員包含局長、審查委員和首席行政專利法官。依該新修訂的標準作業流程，POP可協助USPTO指定哪些PTAB的最終書面決定是對於後案具有拘束力的先例（precedential），哪些則僅具有指導性（informative），期增加PTAB最終書面決定（final written decision）的可預測性和信賴度。

POP成立之後，PTAB即著手指定先例和指導性最終書面決定，對「重複」或「同時」利用USPTO、聯邦法院和ITC不同管轄權增加限制。本文以下分別整理PTAB現行對行使限制申請人「重複」或「同時」申請立案之裁量權時的考量因子。

於專利複審程序重複立案（Serial Petitions）的限制

PTAB將2017年General Plastic Industrial Co., Ltd. v. Canon Kabushiki Kaisha案（General Plastic案）指定為「重複」針對同一專利提出請求的IPR案件（即"follow-on" or "serial" petitions challenging the same patent）中，後續IPR能否立案的判例。該判決中確立7點（但不限於）判斷基準，並收錄於之後的PTAB審理指引，成為正式規則，包含：

1. 是否為同一請求人對於同一專利之同一請求項提出專利複審案的申請（whether the same petitioner previously filed a petition directed to the same claims of the same patent）；
2. 前次專利複審案提出時，該請求人是否知悉或應知悉後專利複審案主張之先前技術（whether at the time of filing of the first petition the petitioner knew of the prior art asserted in the second petition or should have known of it）；
3. 後專利複審案提出時，前專利複審案是否已進展至專利權人提出初步回應或PTAB是否已作出立案決定（whether at the time of filing of the second petition the petitioner already received the patent owner's preliminary response to the first petition or received the Board's decision on whether to institute review in the first petition）；
4. 申請人從得知後專利複審案主張的先前技術到提出該專利複審案的時間長度是否合理（the length of time that elapsed between the time the petitioner learned of the prior art asserted in the second petition and the filing of the second petition）；
5. 申請人對於專利複審前後案之提出時間間隔是否具合理解釋（whether the petitioner provides adequate explanation for the time elapsed between the filings of multiple petitions directed to the same claims of the same patent）；
6. PTAB妥善運用有限資源的考量（the finite resources of the Board）；和
7. 依法，對有專利訴訟在前之情形者，提出專利複審案的間隔不能超過一年（the requirement under 35 U.S.C. § 316(a) (11) to issue a final determination not later than 1 year after the date on which the Director notices institution of review）。

併行複審和爭訟程序時的立案（Parallel Petitions）限制

PTAB在前述2017年General Plastic案的最終書面決定即暗示其可能基於已在法院訴訟或ITC審理的侵權案，駁回後續針對相同專利的IPR立案請求。

嗣後，PTAB復將2018年NHK Spring Co., Ltd. v. Intri-Plex Techs案（NHK案）和2020年Apple Inc. v. Fintiv, Inc.案（NHK案）指定為具有拘束力的先例，兩先例中作為裁量權時的考量因子被稱為NHK-Fintiv 規則。其中，PTAB在Fintiv案的最終書面決定亦明確揭示6點（但不限於）判斷基準，包含：

1. 若PTAB立案進行專利複審案，併行審理訴訟的法院是否會准許或有證據顯示可准予暫停訴訟（whether the court granted a stay or evidence exists that one may be granted if a proceeding is instituted）；
2. 併行審理訴訟之法院所指定的審判期日，與PTAB做出專利複審案之最終書面決定的計畫法定期限，兩日期間的接近程度（proximity of the court's trial date to the Board's projected statutory deadline for a final written decision）；
3. 併行審理訴訟之法院訴訟程序中，法院與訴訟當事人的付出程度（investment in the parallel proceeding by the court and the parties）；
4. 專利複審案和併行審理訴訟之法院訴訟中，兩者提出爭點的重疊程度（overlap between issues raised in the petition and in the parallel proceeding）；
5. 併行審理訴訟之法院訴訟中的被告，與專利複審案申請人是否隸屬於同一實體（whether the petitioner and the defendant in the parallel proceeding are the same party）；和
6. 影響PTAB行使裁量權的其他情況，包括案件實質內容（other circumstances that impact the Board's exercise of discretion, including the merits）。

小結

前述種種判例和規則修訂顯示PTAB近年著力於IPR程序效率與公平性。其歸根究底主要在於PTAB欲防止產業界重覆提起IPR之審查，使專利權人疲於訟累、消耗專利行政主管機關的有限資源，亦強調程序上的正當與公平性，以扭轉學術與實務界認為IPR為專利殺手（patent killer）的形象。然而，筆者認為此舉誠然會增進IPR程序的經濟性和跨管轄權與審判機構 （cross- jurisdiction and tribunal）的判決一致性，但相對來說，亦以行政權調整人民循公眾審查機制舉發無效專利的門檻，而相當程度限制了國會清楚賦予公眾以不同證據標準挑戰專利有效性的權益，產業界也應隨之調整自身策略。

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去年第4季車用晶片嚴重缺貨引起歐美國家高度重視，美國更重新審視其半導體產業的發展現況，發現其本土半導體生產能力嚴重不足，於是在《2021 財年國防授權法》（National Defense. Authorization Act for Fiscal Year 2021）中製定了條款，授權聯邦政府對美國本土半導體製造及半導體研發投資祭出激勵措施，以及通過投資稅收抵免來支持製造業的努力。美國的顧問服務機構Boston Consulting Group (BCG)及半導體產業協會 (Semiconductor Industry Association，SIA)合作發表的一分研究報告(以下簡稱為「報告」)，分析了美國政府的激勵措施會對本土半導體製造業產生什麼影響。

在數位化轉型、人工智慧和5G通信的時代，半導體行業對於經濟競爭力和國家安全至關重要。儘管在EDA、IC設計、核心IP的部分美國可以說是傲視全球，但美國的半導體製造能力已從1990年的37％下降到2020年底的12％。而且，在全球新開發的半導體產能中，只有6％位於美國。相比之下，預計在未來十年內，中國將增加約40％的產能，並成為世界上最大的半導體製造基地 (如圖1所示)。

報告表示政府政策一直是讓亞洲半導體製造業強勁成長的主要因素：這些國家將戰略重點放在半導體上，並透過優惠的補助政策、稅收抵免和其他政府激勵措施來支持其國內製造業的發展，從而使其本國經濟更具吸引力。

另一方面，無晶圓廠IC設計公司模式的興起也對半導體產業的發展造成了一定的影響。許多美國公司採用了這種商業模式，依靠國外的合作夥伴（純晶圓代工廠）來進行生產製造，讓本身可以專注於半導體晶片設計和商品化。這些外國的代工夥伴在其他國家／地區能以較低的成本和具吸引力的政府激勵措施來經營。目前純晶圓代工廠占全球半導體製造能力38％，其中只有7％位於美國。相比之下，美國的整合元件製造商 (IDM)的占比要高許多，達到14％。

對美國來說，半導體產能的市占減少不是技術的問題，事實上，在10奈米以下的先進製程，美國有28%的全球市占率。而且，美國公司在不同產品領域（邏輯、記憶體、類比）的先進製程研發也是領先全球的，包括應用於晶圓廠的軟體、設備、以及製程制控工具等等 (如圖2所示)。現在比較大的問題是許多公司都選擇在美國以外的國家或地區建廠，為什麼呢？

成本為最大考量

報告指出美國的半導體製造能力之所以日漸萎縮與成本結構很大的關係。在選擇建造前端製造設施的位置時，美國在關鍵因素上的排名很高，像是有可以獲得熟練人才的管道以及足夠的智慧財產權保護。但是，於美國建置新晶圓廠十年的總擁有成本 (Cost of Ownership) 比台灣，韓國或新加坡高約30％；如果與中國大陸比，更是高出37％至50％。也就是說，其初始投資和年度運營成本的差距落在100億美元至400億美元之間（視乎生產的產品類型）。

從圖3「選擇晶圓廠位置的關鍵因素」可見，儘管美國在三個選擇晶圓廠的位置條件上都獲得了很高的評價，但美國在晶圓廠經濟效益方面卻沒有競爭力。美國在五個最重要的因素中，有三個是名列前茅的：分別是與現有產業生態有協同作用、人才的獲取以及對智慧財產權有足夠的保護。但是，在另外兩個關鍵因素（勞動力成本和政府激勵措施）方面，美國被認為是遠遠落後於其他地區的 (如圖4所示)。

【本文未完，完整內容請見《北美智權報》281期：痛定思痛：美國計畫提升本土半導體製造能力】

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設計專利是保護對物品全部或部分之形狀、花紋、色彩或其結合，透過視覺訴求的創作，著重於物品質感、親和性、高價值感之視覺效果表達，以增進商品競爭力及使用上視覺之舒適性，與技術性無關。設計專利和發明專利一樣，都須經過實體審查才能取得專利權。設計專利的審查制度，不採發明的早期公開及請求審查制，也不採取新型的形式審查制，若要申請設計專利，將自文件齊備後，由智慧財產局審查人員進行實體審查。

專利法對於設計之定義

依專利法對於設計之定義，設計專利所保護之標的包含「物品之全部設計」、「物品之部分設計」及「應用於物品之電腦圖像及圖形化使用者介面設計」之一般申請態樣；另依專利法申請成組物品之設計及申請「衍生設計」專利者，二者雖分屬「一設計一申請」及「先申請原則」之特殊申請態樣，但仍須符合專利法有關設計之定義。不論申請的設計專利屬於一般申請態樣或特殊申請態樣，皆應符合專利法對於設計的一般定義。

根據專利法第121條規定，設計的定義是「對物品之形狀、花紋、色彩或其結合，透過視覺訴求之創作」，應用於物品的電腦圖像及圖形化使用者介面，亦得申請設計專利，但必須是「應用於物品」且「透過視覺訴求」之具體設計，才屬於專利法所規定之設計，否則不得准予專利。即使符合設計之定義，若屬於「法定不予設計專利之項目者」，仍不得准予專利。

設計必須應用於物品設計，是指應用於物品（全部或部分）之外觀的創作，以圖式所揭露物品之外觀為基礎，並得審酌說明書中所記載有關物品及外觀之說明，整體構成申請設計專利的範圍。申請設計專利必須是「應用於物品之外觀設計」，以供產業上利用，因此不能脫離所應用之物品而單獨構成設計專利權範圍。

申請設計專利時，應指定所施予之物品，而所應用之物品的認定，應以圖式所揭露之內容為基礎，並得審酌設計名稱所指定之物品，使人了解該物品之用途、功能。設計與發明、新型之技術創作不同，其創作內容不在物品本身，而在應用於物品之外觀的創作，故申請設計專利所應用之物品的用途、功能通常藉設計名稱之指定，即得以確定。指定設計名稱後，通常亦確定了該設計所應用物品所屬之分類領域，並得作為界定相同或近似物品範圍的判斷依據之一。

申請設計專利時，亦有所謂「先申請原則」，相同或近似之設計有二以上專利申請案時，僅得就其最先申請者准予設計專利。如申請日或優先權日為同日者，則應通知申請人協議定之，協議不成時，均不予設計專利；如申請人為同一人時，則應通知申請人限期擇一，屆期未擇一申請者，均不予設計專利。

表一、設計專利相關法條

資料來源：智慧財產局

條號	內容
第121條	設計，指對物品之全部或部分之形狀、花紋、色彩或其結合，透過視覺訴求之創作。 應用於物品之電腦圖像及圖形化使用者介面，亦得依本法申請設計專利。
第129條	申請設計專利，應就每一設計提出申請。 二個以上之物品，屬於同一類別，且習慣上以成組物品販賣或使用者，得以一設計提出申請。 申請設計專利，應指定所施予之物品。
第127條	同一人有二個以上近似之設計，得申請設計專利及其衍生設計專利。 衍生設計之申請日，不得早於原設計之申請日。 申請衍生設計專利，於原設計專利公告後，不得為之。 同一人不得就與原設計不近似，僅與衍生設計近似之設計申請為衍生設計專利。

申請設計專利注意事項

設計專利所保護之標的，為應用於物品之形狀、花紋、色彩或其二者或三者之結合，透過視覺訴求之創作，不包括有關聲音、氣味或觸覺等非外觀之創作。申請設計專利不屬於設計專利保護之標的者，應以不符合設計之定義為理由，不予專利。

物品的色彩可以申請設計專利：依附在物品的色彩如果要主張色彩，其圖式應具體呈現其色彩。基本上就是在所申請的設計專利中，每個圖式都呈現一致的色彩。2013 年1 月1 日起針對設計專利，有涉及顏色而主張色彩者，其圖式呈現其色彩即可，不需要再檢送色卡編號或色票。

文字可以當作花紋可以申請設計專利：若申請設計專利之物品表面包含文字，例如包裝盒表面包含文字，該文字將被視為花紋之構成要素而得申請設計專利；其所保護之內容是指文字本身所呈現之視覺效果，或經設計構成或布局後整體呈現之視覺效果，而非文字本身所隱含的意思。但必須注意的是，如果僅申請文字本身而未依附於物品者，仍不符合設計的定義。

大樓外觀或景觀設計可以申請設計專利：建築設計如能符合說明書及圖式之揭露要件及專利要件，可以取得設計專利。例如所申請的設計專利為建築物，就必須於圖式中具備足夠的視圖，以明確且充分揭露該建築物的各角度之設計特徵。

設計專利的專利權範圍及救濟

根據專利法第136條第2項，設計專利權範圍，以圖式為準，並得審酌說明書。因此，判斷設計的專利權範圍是以圖式所揭露的內容為主，專利說明書雖無申請專利範圍之記載，並不影響專利權範圍的判斷。

若不服設計不予專利之初審審定，可於審定書送達後2個月內向智慧財產局申請再審查。若不服設計不予專利再審查審定者，可於收到審定書之次日起30天內，備具訴願書正、副本(正本：經濟部、副本：經濟部智慧財產局)，並均須檢附審定書影本，經由智慧財產局或直接向經濟部提起訴願。

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